安集科技:高股价难安

来源: 国际金融报

19/08/25

IPO日报发现,虽然安集科技的股价很耀眼,但其最主要的产品———化学机械抛光液的全球市场占有率可谓“迷你”。

15年前,王淑敏海外学成回国,在上海创办了安集研发中心(上海安集)。

此前,王淑敏曾就职于抛光液行业龙头卡伯特,担任项目经理、亚洲技术总监等职位。跟王淑敏一起创业的,还有同样出身卡伯特的俞昌。2006年2月,安集微电子科技(上海)股份有限公司成立,将上海安集纳入其下。

安集科技主营业务为半导体材料的研发和产业化,产品包括不同系列的化学机械抛光液和光刻胶去除剂,主要应用于集成电路制造和先进封装领域。从产品来看,化学机械抛光液是公司主攻领域,在2016年-2018年的营收占比均在82%以上。

什么是化学抛光液?它在半导体领域中又起到什么作用?

化学机械抛光液(CMP抛光液)广泛应用于LED、集成电路、蓝宝石等的抛光过程。化学机械抛光液可以去除芯片在生产过程中残留的多余材料,从而使得芯片表层变得更加光滑。简言之,即辅助抛光和保护芯片等材料不受划伤。

长期以来,全球化学机械抛光液市场主要被美国和日本企业所垄断,包括美国的Cabot Microelectronics(卡伯特)、Versum和日本的Fujimi等。其中,卡伯特在全球抛光液市场的占有率最高,但是已经从2000年的约80%下降至2017年的约35%。

公司招股书显示,2016年-2018年,安集科技在全球抛光液市场的占有率分别为2.42%、2.57%、2.44%。安集科技认为,公司成功打破了国外厂商的垄断,实现了进口替代。

在中国大陆市场,2018年,卡伯特和安集科技的销售收入分别为6.44亿元、2.2亿元,卡伯特的国内抛光液市场占有率约为安集科技的三倍。

有意思的是,安集科技自称,打破了国外厂商对集成电路领域化学机械抛光液的垄断,但国际市场的占有率,却有点“惨淡”,远低于卡伯特等龙头企业,原因何在?

对此,曾任职中芯国际工程师的王旭阳(化名)指出,这是因为进口抛光液有不可替代的地方,如安集科技的核心产品是应用于逻辑芯片的铜系抛光液,而卡伯特则是以应用于存储芯片的钨抛光液为主。

这种不可替代性还体现在技术方面。安集科技的化学机械抛光液已在130-28nm技术节点实现规模化销售,主要应用于国内8英寸和12英寸主流晶圆产线;14nm技术节点产品已进入客户认证阶段,10-7nm技术节点产品正在研发中,与行业龙头相比尚有代差。

不过,据IPO日报了解,目前130-28nm技术节点的化学机械抛光液就可以满足多数国内芯片制造商的需求。

某半导体上市公司高管刘松向IPO日报介绍,28nm是一个技术节点,28nm往下的芯片在市场上的用量加起来很少,绝大多数芯片其实还是在90nm到65nm之间,技术要求相对较低。

王旭阳也指出,在不太关键的工艺步骤上,对于28nm的芯片,往往技术节点大于等于28nm的抛光液就可以满足其需求。

此外,IPO日报采访多位行业内人士得知,安集科技14nm技术节点产品已进入客户认证阶段,但客户认证的过程通常会很久,至少需要一至两年时间。而研发的时间则需要更久,不少企业从前期研发到量产甚至需要近十年的时间。

除了现在技术节点无法达到7nm,安集科技的抛光液与同等技术节点的进口抛光液是否存在明显差距?

一位接近中芯国际的人士马超(化名)指出,单从铜抛光液来说,安集科技的产品跟进口抛光液的差距不大,公司在该领域发展已经比较成熟,但其他产品与国外还存在着很大的差距。

同样从事抛光液的行业人士黄晓宁(化名)表示,如果公司的抛光液已经被客户认可,那它的质量肯定是经过验证的。而两者的差距主要是看抛光液的良率。所谓良率,是指良品率,就是抛光速率、厚度差、抛光表面的缺陷等要求。一些芯片的生产过程需要20多道抛光程序,好的抛光液需要保证在这些工序后,良品率依然很高。

除了产品能否实现完全替代,原材料的采购也很大程度影响了市场占有情况。“比如稀土金属铈、铯等矿在中国较为少有,必须通过进口。”黄晓宁表示,目前稀有金属的采购权还是掌握在卡伯特等领先厂商的手中,如果无法买到上述原材料,也就谈不上生产相应的抛光液。

刘松补充道,国产抛光液虽然具有价格较低的优势,但抛光液占芯片生产成本的比重并不大,所以一些企业仍是更加偏向于进口产品,因为用惯了进口产品,进口产品的性能更加稳定。其举例称,今年年初,台积电发生晶圆污染事故,损失或高达上亿元,其主要原因就是“化学原料没有达到要求”。


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